专注于半导体
无锡海创半导体有限公司是一家专业从事半导体前端制造设备关键零部件的研发、制造和服务的领先企业。我们专注于半导体核心元件领域,致力于为全球半导体行业提供高性能、高可靠性的产品和技术支持。
公司的核心产品线全面覆盖前端设备的关键耗材和核心部件,包括但不限于:全氟醚橡胶(FFKM)密封件、精密门板。.....
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ESC静电卡盘是半导体制造领域的核心晶圆夹紧装置,其基本原理是静电吸附。它通过施加高电压形成静电场,并通过库仑力或约翰逊-拉贝克力实现晶片的非接触固定,是等离子体蚀刻、离子注入和薄膜沉积等真空工艺中不可或缺的关键部件。该产品适用于恶劣的工艺环境,包括非磁性条件和10℃的超高真空⁻⁵ Pa及以下,可以稳定吸附晶片、蓝宝石和玻璃等各种介电材料。它支持双极、多极和交叉指型电极的定制设计,吸附表面的整体平...
ESC静电卡盘作为一种替代传统机械夹紧和真空吸附的新型精密夹紧技术,凭借其独特的技术优势,已大规模应用于半导体、面板显示器、太阳能光伏和精密光学等高端制造领域,并已成为现代超净薄板加工的核心载体。与传统的夹紧方法相比,ESC静电卡盘的核心技术优势体现在四个主要方面。第一,非接触无应力夹紧:固定是通过静电力实现的,没有物理接触,完全避免了机械夹具造成的晶片损坏和边缘排斥效应,适用于加工厚度小于50μ...
ESC静电吸盘的核心是利用静电感应和电场力实现晶片和玻璃基板等薄工件的非接触式精确固定。本质上,它是一种可控的电容吸附系统,适用于真空和等离子体环境等恶劣的半导体工作条件。同时,它通过不同的吸附机制适应各种工艺要求。它具有三明治状结构:底层是用于支撑和电路集成的基板,中间层由金属电极(单极、双极或多极)组成,表层覆盖着由氮化铝和氧化铝等材料制成的绝缘导热介电层。在操作过程中,工件充当电容器的上板,...
影响ESC静电吸盘吸附力的核心因素可分为四类:材料特性、结构参数、操作参数和工作环境。这些因素相互关联,直接决定了吸附的稳定性、均匀性和适应性,详细分析如下: 1.材料特性材料是吸附力的基本保证,其核心影响在于电荷传导和电场形成的影响。电介质层材料和性能介电层的介电常数和体积电阻率直接决定了吸附机理和吸附力的大小。介电常数越高,电场越强,吸附力(尤其是库仑力)越大;氮化铝陶瓷具有比氧化铝更高的介...
为了提高ESC静电卡盘的稳定性和安全性,必须从操作控制、日常维护、结构优化和环境适应四个方面建立全过程保证体系。该系统确保了吸附性能的持续稳定性,操作、工件和设备的安全保护,避免了电荷积聚和材料磨损等潜在风险。 1.精确控制操作参数,巩固稳定核心合理调节操作参数是保持吸附稳定性和避免潜在安全隐患的基础,必须结合吸附机理和工艺场景准确设置。电压参数的精确匹配根据卡盘类型(库仑力/J-R力)设置额定...